在許多先進的半導體元件制造中,，化學機械拋光（CMP）是非常很需要的制造技術(shù),?；瘜W機械拋光在特定的制造步驟間,，讓硅晶圓表面達到全面的平面化，使更多層電路可以垂直地在元件上制造。PVA海綿具有極佳的親水性能和較好的柔韌性，不易劃傷硅片,，且去除顆粒效果好。PVA海綿在半導體制造業(yè)的CMP后清洗中有著重要的應用,。東安開發(fā)有限公司的專利生產(chǎn)線能生產(chǎn)出具有最優(yōu)良的機械強度和親水性能的PVA海綿,。ProCleanTMPVA清潔材料的工作原理：在清潔過程中改變PVA（聚乙烯醇）的分子結(jié)構(gòu)，使基片,，PVA,，水及清潔介質(zhì)在一定的時間內(nèi)達到最佳的反應狀態(tài)，從而保證達到嚴格的清潔效果,。PVA是一種性能極佳的化學清潔劑的反應介質(zhì)，正是它給待清潔的基片提供了最強有力的清潔作用,，而進行產(chǎn)品表面的擦洗只是輔助PVA對產(chǎn)品進行清潔,?；赑roCleanTMPVA的工作原理，我們可以為客戶設計出最適合其生產(chǎn)設備及生產(chǎn)工藝的PVA清潔產(chǎn)品,，ProCleanTMPVA產(chǎn)品規(guī)格齊全,。可以用在AmatAmirrMesa,，LamOn-trak,Ebara和SpeedFam-IPEC等CMP機臺,。可幫助客戶制造技術(shù)領先的半導體元件,，同時也能滿足客戶提高產(chǎn)量,，降低生產(chǎn)成本，提高產(chǎn)品竟爭力的需求,。在許多先進的半導體元件制造中,，化學機械拋光（CMP）是非常很需要的制造技術(shù)?；瘜W機械拋光在特定的制造步驟間,，讓硅晶圓表面達到全面的平面化，使更多層電路可以垂直地在元件上制造,。PVA海綿具有極佳的親水性能和較好的柔韌性,，不易劃傷硅片，且去除顆粒效果好,。PVA海綿在半導體制造業(yè)的CMP后清洗中有著重要的應用,。東安開發(fā)有限公司的專利生產(chǎn)線能生產(chǎn)出具有最優(yōu)良的機械強度和親水性能的PVA海綿。ProCleanTMPVA清潔材料的工作原理：在清潔過程中改變PVA（聚乙烯醇）的分子結(jié)構(gòu),，使基片,，PVA，水及清潔介質(zhì)在一定的時間內(nèi)達到最佳的反應狀態(tài),，從而保證達到嚴格的清潔效果,。PVA是一種性能極佳的化學清潔劑的反應介質(zhì)，正是它給待清潔的基片提供了最強有力的清潔作用,，而進行產(chǎn)品表面的擦洗只是輔助PVA對產(chǎn)品進行清潔,。基于ProCleanTMPVA的工作原理,，我們可以為客戶設計出最適合其生產(chǎn)設備及生產(chǎn)工藝的PVA清潔產(chǎn)品,，ProCleanTMPVA產(chǎn)品規(guī)格齊全?？梢杂迷贏matAmirrMesa,，LamOn-trak,Ebara和SpeedFam-IPEC等CMP機臺。可幫助客戶制造技術(shù)領先的半導體元件,，同時也能滿足客戶提高產(chǎn)量,，降低生產(chǎn)成本，提高產(chǎn)品竟爭力的需求,。